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北方微电子自2001年10月成立以来，就肩负发展民族产业之重任，以推进高端微电子装备国产化为使命，通过实施国家科技重大专项，实现了我国高端集成电路装备的技术提升，同时积极向节能环保、新能源等新兴战略产业拓展。

       2011年10月29日，北方微电子 “成立十周年暨新厂房落成”庆典在其亦庄新址隆重举行。活动由国家02科技重大专项实施管理办公室主任梁胜主持，北京市市委常委、常务副市长吉林、北京经济技术开发区管委会主任张伯旭、国家02科技重大专项领导小组办公室主任戴国强、总体专家组组长叶甜春、北京电子控股有限责任公司董事长、党委书记兼北方微电子公司董事长王岩等领导，以及用户、供应商、合作单位等400余位嘉宾出席庆典，共贺北方微电子成立十周年暨新厂房落成。

       张伯旭主任、叶甜春组长、戴国强主任分别致辞，对北方微电子在十五、十一五期间取得的显著成绩表示祝贺，并表达了对北方微电子未来发展的美好祝愿和坚定信心。华虹NEC副总裁雷海波、上海蓝光副总裁刘理想等用户代表在会上发言，高度认可与北方微电子公司的合作，继续携手并进共创未来。

       吉林副市长表示，北京会继续加大对微电子领域高新技术发展的扶持力度。同时，要求北方微电子抓住机遇，积极参与国内外竞争，不断发展壮大，为我国高端微电子装备的技术研发和产业化做出新的贡献。

       10年来，北方微电子在多个技术领域实现了重大突破。

       一、刻蚀机等产品的成功研制，填补了国内4项空白，带动我国集成电路装备研制水平的显著提升

       1）8英寸集成电路刻蚀机：国际先进水平，填补国内空白。国内首台进入大生产线使用的8英寸集成电路核心工艺装备，已成功销往中芯国际、上海华虹、上海宏力、国家集成电路先导工艺研发中心等用户，成为大生产线上的主力机台，订单累计1亿元人民币。

       2）12英寸集成电路刻蚀机：国际先进水平，填补国内空白。国内首台进入大生产线验证的12英寸集成电路核心工艺装备，已完成主流生产线的工艺考核，主要工艺性能指标达到国际同类产品水平，已取得客户批量采购意向。

       3）半导体照明刻蚀机：国际领先水平，填补国内空白。全球范围内首次将12英寸集成电路刻蚀工艺技术应用于半导体照明领域，已实现对彩虹蓝光、三安光电、中镓半导体、同方光电、大连路明、湖南华磊、神光安瑞等主流客户的销售，2011年市场占有率超过50%（其中应用于蓝宝石图形化衬底的刻蚀机市场占有率超过80%），订单累计1亿元人民币。

       4）太阳能光伏PECVD（等离子增强化学气相沉积）设备：国际先进水平，填补国内空白。设备采用平板式大产能设计，应用多项集成电路核心技术，设备成膜的均匀性、减反射特性以及折射率等工艺技术指标均达到国际先进水平，已取得生产线量产验证。

       二、PVD设备、MOCVD设备研发进展顺利，产品创新不断升级，带动本土企业摆脱国外垄断，抢占产业制高点。

       1）12英寸PVD（物理气相沉积）设备：该产品由归国海外专家、国内首批“千人计划”学者带队攻关，采用国际领先的设计理念，产品可应用于铜制程工艺，目前已完成客户产品工艺测试。该产品研制成功后，将打破国外厂商垄断。该产品还可拓展应用于半导体照明、TSV先进封装领域。

       2）金属有机物化学气相沉积（MOCVD）设备：该产品国际领先的设计理念，一次可完成100片以上的2英寸芯片外延，产能是国外设备的2倍，已完成原理样机的设计与组装。该产品研制成功后，将大大提升我国半导体照明领域的产业竞争力。

       北方微电子通过十年的发展，掌握了多项核心技术，截至2011年6月底，共计申请国内专利700余件，其中发明专利697件，PCT申请49件。

       今年，是北方微电子成立的第十个年头。近日，公司研发的12英寸65nm高密度等离子刻蚀机通过中芯国际北京工厂生产线全线工艺验证，这标志着继成功攻克8英寸100nm刻蚀技术难关后，北方微电子在追赶国际领先集成电路装备技术的道路上，又迈进了一大步。

       今年，北方微电子又承接了国家“十二五”《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》重大专项（02专项）“32-22nm栅刻蚀机产品研发及产业化”项目、“45-22nm铜互连PVD设备研发及产业化”项目。

       北方微电子董事长王岩在致辞中表示，北方微电子将继续以推进高端微电子装备国产化为使命，确保国家科技重大专项的完成，实现我国高端集成电路装备的技术提升，同时将积极向节能环保、新能源等新兴战略产业拓展，争取在更多技术领域实现重大突破。